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Scanning electron microscopes

École Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) Centre Interdisciplinaire de Microscopie Électronique (CIME) | Published December 23, 2016  -  Deadline January 26, 2017

EPFL beabsichtigt Rasterelektronenmikroskop ein für das Elektroenemikroskopiezentrum CIME anzuschaffen.

Mit dem neuen Mikroskop sollen und Nano-Mikro- Strukturen, die chemische Zusammensetzung sowie die von Topography Proben im Gebiet der Chemie und werden Materialwissenschaften untersucht.

Der Bereich der zu untersuchenden Proben umfasst Halbleiter, Metalle, Isolatoren (wie z. B. Keramiken, Gläser und Verbundwerkstoffe) strahlempfindliche Materialien (Kunststoffe, organische Proben etc.) einzelen und in Kombination.

Soll das Mikroskop einer großen Zahl von Benutzern zugänglich breast. Diese sollen mit großer möglichst Effizienz (hoher Durchsatz und große Stabilität) year ihren Proben arbeiten können.

Da eine große Anzahl Häufig Proben in einer werden müssen Sitzung untersucht soll das eine hohe Mikroskop mechanische und elektrische Stabilität aufweisen und mit einem EDX System mit hoher und Empfindlichkeit maximaler Zählrate ausgerüstet breast.

Alle sollen Aufgaben über ein ...

The EPFL plans to purchase a scanning electron microscope to be installed at ICEM.

This new microscope will be used to study the structure of matter at the micro and nanoscale, as well as observation of the topography and chemical composition. Observed samples in high resolution are varied and include semiconductors, metal, insulating materials such as ceramics, glasses, polymers and composites, as well as sensitive to radiation materials as organic polymers or materials. Combinations of these materials in a sample are also possible.

The microscope will be used in a multi-user environment. It will allow users to work with high efficiency quickly. The machine must therefore be stable both from the mechanical point of view from the point of view of alignments to permit inspection of several samples per session. The EDX system should also allow (...)

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